




產品型號:LNG-1200
更新時間:2026-01-16
廠商性質:生產廠家
訪 問 量 :14
133-3868-4951
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真空熱壓爐
產品應用:
該設備主要供大專院校、科研單位等針對金屬化合物、陶、無機化合物、納米材料等在真空或保護氣氛的條件下進行加壓加熱燒結處理,以便獲得高致密度的產品,例如生產高精度氮化硅陶瓷軸承等。
產品特點:
爐蓋采用雙層不銹鋼(SUS304)水夾層封頭結構,與法蘭組焊成一個整體。其中內壁精密拋光,外壁噴砂鈍化處理。爐蓋上設有冷卻水進出口、上壓頭安裝座、壓力傳感器接、自動充放氣接等。
加熱采用優質高純石墨作發熱體,圓周排布,保證溫場的穩定性,且高純石墨純度高,無揮發,有效保證爐腔內的清潔度。隔熱材料采用石墨纖維碳氈,保溫效果好,耐沖擊性好。整個隔熱屏采用金屬框架固定,便于安裝與維護。
電氣控制系統可實行自動控溫,PID帶有自整定功能。

真空熱壓爐設備核心結構由七大系統構成,協同保障加工穩定性。爐體采用雙層水冷夾套設計,內層為拋光不銹鋼腔體,外層為碳鋼防護,夾層通水冷卻可使爐壁溫度控制在60℃以內,兼顧密封性與安全性。加熱系統多采用石墨發熱體或感應線圈,石墨發熱體zui高溫度可達2500℃,升溫速率快且熱場均勻;感應加熱則適配高精度加工需求,控溫精度更優。
真空與氣氛系統是核心配置,由機械泵、擴散泵或分子泵組成,冷態極限真空度可達4×10?3~6×10??Pa,壓升率≤0.26Pa/h,同時支持充入Ar、N?、H?等保護氣體,適配不同材料加工需求。壓力系統采用液壓驅動,可實現單向或雙向加壓,壓力范圍30T~2000T可調,壓頭平面精度達±5μm,壓力控制精度≤±0.5%,搭配光柵尺位移監測,實時反饋壓頭行程,精度可達0.05mm。

控制系統采用PLC與PID算法,實現溫度、壓力、真空度的閉環精準控制,溫度均勻性±5℃,支持工藝參數編程存儲、實時曲線顯示與數據追溯,同時配備超溫、斷水、過壓聲光報警及急停裝置,quan方位保障作業安全。冷卻系統采用外循環設計,壓力2~10bar,可實現工件快速降溫,提升加工效率并避免熱應力開裂。
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